LNOI плочица (литијум ниобат на изолатору) Телекомуникациона сензорска технологија Висока електрооптичка технологија
Детаљан дијаграм
Преглед
Унутар кутије за плочице налазе се симетрични жлебови, чије су димензије строго уједначене како би подупирале обе стране плочице. Кристална кутија је генерално направљена од провидног пластичног ПП материјала који је отпоран на температуру, хабање и статички електрицитет. Различите боје адитива се користе за разликовање сегмената металног процеса у производњи полупроводника. Због мале величине кључа полупроводника, густих образаца и веома строгих захтева за величину честица у производњи, кутији за плочице мора бити загарантовано чисто окружење како би се повезала са реакционом шупљином кутије за микроокружење различитих производних машина.
Методологија израде
Израда LNOI плочица састоји се од неколико прецизних корака:
Корак 1: Имплантација јона хелијумаЈони хелијума се уводе у кристал LN помоћу јонског имплантера. Ови јони се смештају на одређеној дубини, формирајући ослабљену раван која ће на крају олакшати одвајање филма.
Корак 2: Формирање основне подлогеОдвојена силицијумска или LN плочица се оксидује или наноси слој са SiO2 коришћењем PECVD или термичке оксидације. Њена горња површина је планаризована ради оптималног спајања.
Корак 3: Лепљење LN за подлогуЈонски имплантирани LN кристал се окреће и причвршћује за основну плочицу директним спајањем плочица. У истраживачким условима, бензоциклобутен (BCB) се може користити као лепак ради поједностављења спајања под мање строгим условима.
Корак 4: Термичка обрада и одвајање филмаЖарење активира формирање мехурића на дубини имплантације, омогућавајући одвајање танког филма (горњег LN слоја) од масе. Механичка сила се користи за завршетак ексфолијације.
Корак 5: Полирање површинеХемијско механичко полирање (CMP) се примењује за заглађивање горње површине LN, побољшавајући оптички квалитет и принос уређаја.
Технички параметри
| Материјал | Оптички Оцена LiNbO3 вафли (бели or Црна) | |
| Кири Температура | 1142±0,7℃ | |
| Сечење Угао | X/Y/Z итд. | |
| Пречник/величина | 2”/3”/4” ±0,03 мм | |
| Тол(±) | <0,20 мм ±0,005 мм | |
| Дебљина | 0,18～0,5 мм или више | |
| Примарни Раван | 16 мм/22 мм/32 мм | |
| ТТВ | <3μm | |
| Лук | -30 | |
| Варп | <40μm | |
| Оријентација Раван | Све доступно | |
| Површина Тип | Једнострано полирано (SSP)/Двострано полирано (DSP) | |
| Полирано страна Ra | <0,5 нм | |
| С/Д | 20/10 | |
| Ивица Критеријуми | R=0,2 мм C-тип or Булнос | |
| Квалитет | Бесплатно of пукотина (мехурићи) и укључивања) | |
| Оптички допингован | Mg/Fe/Zn/MgO итд. за оптички разред ЛН вафле по захтевано | |
| Вафла Површина Критеријуми | Индекс преламања | No=2,2878/Ne=2,2033 @632nm метод таласне дужине/призматичног спрезача. |
| Контаминација, | Ниједан | |
| Честице c>0,3μ m | <=30 | |
| Огреботина, крзање | Ниједан | |
| Дефект | Без пукотина на ивицама, огреботина, трагова тестере, мрља | |
| Паковање | Кол./кутија за вафле | 25 ком по кутији |
Случајеви употребе
Због своје свестраности и перформанси, LNOI се користи у бројним индустријама:
Фотоника:Компактни модулатори, мултиплексери и фотонска кола.
РФ/Акустика:Акустооптички модулатори, РФ филтери.
Квантно рачунарство:Нелинеарни мешачи фреквенција и генератори фотонских парова.
Одбрана и ваздухопловство:Оптички жироскопи са малим губицима, уређаји за померање фреквенције.
Медицински уређаји:Оптички биосензори и сонде високофреквентних сигнала.
Честа питања
П: Зашто је LNOI пожељнији од SOI у оптичким системима?
A:LNOI има супериорне електрооптичке коефицијенте и шири опсег транспарентности, омогућавајући веће перформансе у фотонским колима.
П: Да ли је CMP обавезан након раздвајања?
A:Да. Изложена површина ЛН је храпава након јонског сечења и мора се полирати да би се испуниле спецификације оптичког квалитета.
П: Која је максимална доступна величина плочице?
A:Комерцијалне LNOI плочице су првенствено величине 3” и 4”, мада неки добављачи развијају варијанте од 6”.
П: Да ли се LN слој може поново користити након раздвајања?
A:Основни кристал се може поново полирати и поново користити неколико пута, мада се квалитет може погоршати након више циклуса.
П: Да ли су LNOI плочице компатибилне са CMOS обрадом?
A:Да, дизајнирани су да се ускладе са конвенционалним процесима израде полупроводника, посебно када се користе силицијумске подлоге.
