4 инча СиЦ плочице 6Х полуизолационе СиЦ подлоге првокласне, истраживачке и лажне подлоге

4-инчне СиЦ плочице 6Х полуизолационе СиЦ подлоге првокласне, истраживачке и лажне Истакнута слика

Кратак опис:

Полуизолована подлога од силицијум карбида се формира резањем, брушењем, полирањем, чишћењем и другом технологијом обраде након раста полуизолованог кристала силицијум карбида.Слој или вишеслојни кристални слој се узгаја на подлози која испуњава захтеве квалитета као епитаксија, а затим се микроталасни РФ уређај прави комбиновањем дизајна кола и паковања.Доступан као 2 инча 3 инча 4 инцгх 6 инча 8 инча индустријска, истраживачка и тестна полуизолована монокристална подлога од силицијум карбида.

Пошаљите нам емаил

Детаљи о производу

Ознаке производа

Спецификација производа

Оцена			Нулта МПД производна класа (З класа)			Стандардна производна класа (П разред)		лажна оцена (Д разред)
Пречник			99,5 мм~100,0 мм
	4Х-СИ		500 μм±20 μм			500 μм±25 μм
Ориентатион Вафер			Ван осе: 4,0° према< 1120 > ±0,5° за 4Х-Н, На оси: <0001>±0,5° за 4Х-СИ
	4Х-СИ		≤1цм^-2			≤5 цм^-2		≤15 цм^-2
	4Х-СИ		≥1Е9 Ω·цм					≥1Е5 Ω·цм
Примарна равна оријентација		{10-10} ±5.0°
Примарна равна дужина		32,5 мм±2,0 мм
Секундарна равна дужина		18,0 мм±2,0 мм
Секундарна равна оријентација		Силицијум лицем нагоре: 90° ЦВ.од Приме флат ±5,0°
Едге Екцлусион		3 мм
ЛТВ/ТТВ/Бов/Варп		≤3 μм/≤5 μм/≤15 μм/≤30 μм						≤10 μм/≤15 μм/≤25 μм/≤40 μм
Храпавост			Ц лице				Пољски		Ра≤1 нм
			Си фаце	ЦМП	Ра≤0,2 нм					Ра≤0,5 нм
Пукотине на ивицама светлошћу високог интензитета		Ниједан						Кумулативна дужина ≤ 10 мм, појединачна дужина≤2 мм
Хек плоче са светлом високог интензитета		Кумулативна површина ≤0,05%						Кумулативна површина ≤0,1%
Политипе Ареас би Хигх Интенсити Лигхт		Ниједан						Кумулативна површина≤3%
Визуелни угљенични укључци		Кумулативна површина ≤0,05%						Кумулативна површина ≤3%
Огреботине на површини силикона од светла високог интензитета		Ниједан						Кумулативна дужина≤1＊пречник плочице
Едге Цхипс Хигх Би Интенсити Лигхт		Није дозвољено ≥0,2 мм ширине и дубине						5 дозвољено, ≤1 мм сваки
Контаминација површине силицијумом високим интензитетом		Ниједан
Паковање		Касета са више плочица или једна посуда за вафле